一、设备参数:
型号 |
SYCY-EB01A |
结构形式 |
真空室采用U型箱体前开门,后置抽气系统 |
真空室 |
400mm×400mm×600mm |
真空系统配置 |
机械泵+分子泵 |
极限压力 |
5.0×10-5Pa(经烘烤除气后) |
恢复真空时间 |
45分钟可达到9.0×10-4Pa |
电子束 蒸发源 |
270度e型电子枪:阳极电压:6kv、8kv |
数量:1套 |
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坩埚:水冷式坩埚,4-6穴设计,每个容量11ml |
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功率:0-10kw可调 |
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样品台 |
样片尺寸:可放置3英寸基片 样片加热最高温度:800℃±1℃ 样片旋转:转速0~30转/分 样片与蒸发源间距:300~350mm可调 |
气路系统 |
0-100SCCM质量流量控制器2路 |
石英晶振膜厚控制仪 |
膜厚探头数量:1-2只 |
膜厚测量分辨率:0.01Å/s |
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膜厚显示范围:0~99μ9999Å |
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水冷却循环系统 |
制冷量:5.17KW |
烘烤照明系统 |
烘烤温度:室温-150℃ |
烘烤方式:卤素灯 |
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整机控制方式 (控制方式为选配) |
手动控制 |
半自动控制 |
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全自动化控制 |